2025-07-10 意昂体育介绍 187
刻机技术日新月异，想知道目前最先进的光刻机已经能做到几纳米了吗？本文将用最通俗的语言为你揭秘这个"芯片制造皇冠上的明珠"，让你3分钟读懂行业最前沿技术。
一、当前最先进光刻机性能
ASML High-NA EUV光刻机
已实现2nm芯片量产，采用0.55数值孔径(NA)技术，单台售价约28亿元人民币，重达150-180吨，需多架货机运输。
下一代Hyper NA EUV研发进展
目标实现5nm单次曝光，预计2035年投入使用，NA值将提升至0.7以上。
二、关键技术突破
光源技术：13.5nm极紫外光(EUV)
光学系统：蔡司纳米级精度镜头(误差<0.1nm)
生产效率：单次曝光替代多次曝光
三、各国技术对比
国家/企业当前水平研发方向荷兰ASML2nm量产1.5nm工艺，中国65nm量产突破EUV光源，日本尼康DUV领先浸没式技术优化。
小知识：1nm≈1根头发丝直径的5万分之一
